应用于工具镀膜的磁场辅助离子镀弧源及其放电特性分析

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	应用于工具镀膜的磁场辅助离子镀弧源及其放电特性分析
	郎文昌 ; 徐焱良 ; 杜昊 ; 肖金泉 ; 高斌 ; 吴百中
刊名	真空
	2015-01-25
期号	1 页码:39-44
关键词	矩形平面大弧源旋转式柱形弧源机械式旋转磁控弧源电磁式旋转磁控弧源多模式动态磁控弧源
中文摘要	针对几种应用于工具镀膜的磁场控制的电弧离子镀弧源,分析了其结构、工作原理以及弧斑运动、放电特性;比较了不同磁场辅助受控弧源的靶结构及磁场位形,并讨论了对弧斑运动、放电及镀膜工艺的影响;对磁场控制的电弧离子镀弧源的发展进行了展望。
公开日期	2015-05-11
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/74086]
专题	金属研究所_中国科学院金属研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	郎文昌,徐焱良,杜昊,等. 应用于工具镀膜的磁场辅助离子镀弧源及其放电特性分析[J]. 真空,2015(1):39-44.
APA	郎文昌,徐焱良,杜昊,肖金泉,高斌,&吴百中.(2015).应用于工具镀膜的磁场辅助离子镀弧源及其放电特性分析.真空(1),39-44.
MLA	郎文昌,et al."应用于工具镀膜的磁场辅助离子镀弧源及其放电特性分析".真空 .1(2015):39-44.