在预刻蚀的衬底上通过分子束外延直接生长出拓扑绝缘体薄膜的微器件

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	在预刻蚀的衬底上通过分子束外延直接生长出拓扑绝缘体薄膜的微器件
	韦庞 ; 李康 ; 冯硝 ; 欧云波 ; 张立果 ; 王立莉 ; 何珂 ; 马旭村 ; 薛其坤
刊名	物理学报
	2014
期号	2 页码:280-284
语种	中文
公开日期	2015-04-14
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.iphy.ac.cn/handle/311004/59922]
专题	物理研究所_物理所公开发表论文_物理所公开发表论文_期刊论文
推荐引用方式 GB/T 7714	韦庞,李康,冯硝,等. 在预刻蚀的衬底上通过分子束外延直接生长出拓扑绝缘体薄膜的微器件[J]. 物理学报,2014(2):280-284.
APA	韦庞.,李康.,冯硝.,欧云波.,张立果.,...&薛其坤.(2014).在预刻蚀的衬底上通过分子束外延直接生长出拓扑绝缘体薄膜的微器件.物理学报(2),280-284.
MLA	韦庞,et al."在预刻蚀的衬底上通过分子束外延直接生长出拓扑绝缘体薄膜的微器件".物理学报 .2(2014):280-284.