Effect of interface native oxide layer on the properties of annealed Ni/SiC contacts | |
Huang W(黄维) ; Chang SH(常少辉) ; Liu XC(刘学超) ; Li ZZ(李铮铮) ; Zhou TY(周天宇) ; Zheng YQ(郑燕青) ; Shi EW(施尔畏) ; Yang JH(杨建华) | |
刊名 | Materials Science Forum
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2013-01-25 | |
卷号 | 740期号:1页码:485 |
ISSN号 | 1662-9752 |
其他题名 | Effect of interface native oxide layer on the properties of annealed Ni/SiC contacts |
通讯作者 | 黄维 |
学科主题 | 材料科学 |
语种 | 英语 |
公开日期 | 2014-12-18 |
内容类型 | 期刊论文 |
源URL | [http://ir.sic.ac.cn/handle/331005/5075] ![]() |
专题 | 上海硅酸盐研究所_中试基地_期刊论文 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | Huang W,Chang SH,Liu XC,et al. Effect of interface native oxide layer on the properties of annealed Ni/SiC contacts[J]. Materials Science Forum,2013,740(1):485. |
APA | Huang W.,Chang SH.,Liu XC.,Li ZZ.,Zhou TY.,...&Yang JH.(2013).Effect of interface native oxide layer on the properties of annealed Ni/SiC contacts.Materials Science Forum,740(1),485. |
MLA | Huang W,et al."Effect of interface native oxide layer on the properties of annealed Ni/SiC contacts".Materials Science Forum 740.1(2013):485. |
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