Effect of interface native oxide layer on the properties of annealed Ni/SiC contacts
Huang W(黄维) ; Chang SH(常少辉) ; Liu XC(刘学超) ; Li ZZ(李铮铮) ; Zhou TY(周天宇) ; Zheng YQ(郑燕青) ; Shi EW(施尔畏) ; Yang JH(杨建华)
刊名Materials Science Forum
2013-01-25
卷号740期号:1页码:485
ISSN号1662-9752
其他题名Effect of interface native oxide layer on the properties of annealed Ni/SiC contacts
通讯作者黄维
学科主题材料科学
语种英语
公开日期2014-12-18
内容类型期刊论文
源URL[http://ir.sic.ac.cn/handle/331005/5075]  
专题上海硅酸盐研究所_中试基地_期刊论文
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GB/T 7714
Huang W,Chang SH,Liu XC,et al. Effect of interface native oxide layer on the properties of annealed Ni/SiC contacts[J]. Materials Science Forum,2013,740(1):485.
APA Huang W.,Chang SH.,Liu XC.,Li ZZ.,Zhou TY.,...&Yang JH.(2013).Effect of interface native oxide layer on the properties of annealed Ni/SiC contacts.Materials Science Forum,740(1),485.
MLA Huang W,et al."Effect of interface native oxide layer on the properties of annealed Ni/SiC contacts".Materials Science Forum 740.1(2013):485.
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