高纯硅中痕量元素分析方法研究进展

	高纯硅中痕量元素分析方法研究进展
	刘洁 ; 钱荣 ; 卓尚军 ; 99
刊名	理化检验-化学分析
	2013-05-01
卷号	49 期号:1 页码:121
ISSN号	1001-4020
其他题名	Progress of Researehes of Methods for Determination of Trace
通讯作者	钱荣
中文摘要	综述了从1980一20 12 年间测定高纯硅中痕量元素分析方法的研究进展" 高纯硅中痕量元素的主要分析方法包括红外光谱法!原子发射光谱法!原子吸收光谱法!X 射线荧光光谱法!极谱法!离子探针与离子色谱法!二次离子质谱法!辉光放电质谱法!电感藕合等离子体质谱法等;并对高纯硅中痕量元素的分析方法进行了展望(引用文献59 篇) "
学科主题	分析化学
语种	中文
公开日期	2014-12-18
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.sic.ac.cn/handle/331005/4914]
专题	上海硅酸盐研究所_无机材料分析测试中心_期刊论文
推荐引用方式 GB/T 7714	刘洁,钱荣,卓尚军,等. 高纯硅中痕量元素分析方法研究进展[J]. 理化检验-化学分析,2013,49(1):121.
APA	刘洁,钱荣,卓尚军,&99.(2013).高纯硅中痕量元素分析方法研究进展.理化检验-化学分析,49(1),121.
MLA	刘洁,et al."高纯硅中痕量元素分析方法研究进展".理化检验-化学分析 49.1(2013):121.