均相胶体液相激光烧蚀连续制备反应腔

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	梁长浩
	2014-12-25
专利国别	中国
专利类型	实用新型
权利人	中国科学院
公开日期	2014-12-25
申请日期	2011-06-18
专利申请号	CN201120206259.3
内容类型	专利
源URL	[http://ir.hfcas.ac.cn/handle/334002/13320]
专题	合肥物质科学研究院_中科院固体物理研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	梁长浩. 均相胶体液相激光烧蚀连续制备反应腔, 均相胶体液相激光烧蚀连续制备反应腔, 均相胶体液相激光烧蚀连续制备反应腔, 均相胶体液相激光烧蚀连续制备反应腔, 均相胶体液相激光烧蚀连续制备反应腔, 均相胶体液相激光烧蚀连续制备反应腔, 均相胶体液相激光烧蚀连续制备反应腔, 均相胶体液相激光烧蚀连续制备反应腔. 2014-12-25.