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梁长浩![]() | |
2014-12-25 | |
专利国别 | 中国 |
专利类型 | 实用新型 |
权利人 | 中国科学院 |
公开日期 | 2014-12-25 |
申请日期 | 2011-06-18 |
专利申请号 | CN201120206259.3 |
内容类型 | 专利 |
源URL | [http://ir.hfcas.ac.cn/handle/334002/13320] ![]() |
专题 | 合肥物质科学研究院_中科院固体物理研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 梁长浩. 均相胶体液相激光烧蚀连续制备反应腔, 均相胶体液相激光烧蚀连续制备反应腔, 均相胶体液相激光烧蚀连续制备反应腔, 均相胶体液相激光烧蚀连续制备反应腔, 均相胶体液相激光烧蚀连续制备反应腔, 均相胶体液相激光烧蚀连续制备反应腔, 均相胶体液相激光烧蚀连续制备反应腔, 均相胶体液相激光烧蚀连续制备反应腔. 2014-12-25. |
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