Non-Porous Low-k Dielectric Films Based on a New Structural Amorphous Fluoropolymer

	Non-Porous Low-k Dielectric Films Based on a New Structural Amorphous Fluoropolymer
	Yuan C(袁超) ; Jin KK(金凯凯) ; Li K(李凯) ; Diao S(刁屾) ; Tong JW(童佳伟) ; Fang Q(房强)
刊名	Adv. Mater.
	2013
卷号	25 期号:35 页码:4875-4878
ISSN号	0935-9648
其他题名	基于新型无定型含氟聚合物的无孔低介电常数膜
通讯作者	房强
学科主题	高分子化学 ; 氟化学
收录类别	SCI
原文出处	http://dx.doi.org/10.1002/adma.201302021
语种	英语
WOS记录号	WOS:000327692800006
公开日期	2014-10-16
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.sioc.ac.cn/handle/331003/29275]
专题	上海有机化学研究所_高分子材料研究室
推荐引用方式 GB/T 7714	Yuan C,Jin KK,Li K,et al. Non-Porous Low-k Dielectric Films Based on a New Structural Amorphous Fluoropolymer[J]. Adv. Mater.,2013,25(35):4875-4878.
APA	袁超,金凯凯,李凯,刁屾,童佳伟,&房强.(2013).Non-Porous Low-k Dielectric Films Based on a New Structural Amorphous Fluoropolymer.Adv. Mater.,25(35),4875-4878.
MLA	袁超,et al."Non-Porous Low-k Dielectric Films Based on a New Structural Amorphous Fluoropolymer".Adv. Mater. 25.35(2013):4875-4878.