用于薄膜制备的射频宽束离子源的设计

	用于薄膜制备的射频宽束离子源的设计
	尤大伟 ; 黄小刚 ; 任荆学 ; 李安杰
刊名	真空科学与技术学报
	2004
卷号	24 期号:6 页码:451-454
关键词	宽束离子源薄膜制备光学薄膜离子束感应线圈匹配射频镀膜高性能
ISSN号	1672-7126
其他题名	Development of Broad Beam RF Ion Source for Thin Film Growth
通讯作者	北京8701信箱
中文摘要	采用射频宽束离子源进行离子束辅助镀膜可以获得高性能的光学薄膜，已越来越得到人们的共识。本文对射频感应线圈的匹配、起弧及三栅离子光学的关键技术进行了重点考虑，并获得了稳定运行的高性能离子源。
英文摘要	A novel type of broad beam radio frequency (RF) ion source has been developed to grow optical films by ion beam assisted deposition.Matching of the inductive coils ,discharge property of the ion source and the 32grid optics were discussed. The lab2made RF ion source displays stable and satisfactory performance.
学科主题	空间技术
收录类别	CSCD
语种	中文
CSCD记录号	CSCD:1845721
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.cssar.ac.cn/handle/122/629]
专题	国家空间科学中心_空间技术部
推荐引用方式 GB/T 7714	尤大伟,黄小刚,任荆学,等. 用于薄膜制备的射频宽束离子源的设计[J]. 真空科学与技术学报,2004,24(6):451-454.
APA	尤大伟,黄小刚,任荆学,&李安杰.(2004).用于薄膜制备的射频宽束离子源的设计.真空科学与技术学报,24(6),451-454.
MLA	尤大伟,et al."用于薄膜制备的射频宽束离子源的设计".真空科学与技术学报 24.6(2004):451-454.