keV量级的N~+注入引起的氨基酸分子损伤
韩建伟 ; 余增亮
刊名核技术
1999
卷号22期号:4页码:200-204
关键词离子注入 注入损伤 氨基酸
ISSN号0253-3219
其他题名Damage effects of keV N~+ ions on amino acid molecules
通讯作者北京8701信箱
中文摘要利用电子顺磁共振和红外光谱研究了keV级N+注入到几种固态氨基酸样品中引起的分子结构损伤。结果表明,这一注入导致了分子的严重损伤:分子结构解体,红外吸收普遍降低;产生了大量的碎片,其中自由基碎片的类型和数量随注入离子的剂量发生显著变化;损伤碎片重组,形成了新的化学组合,表现出新的红外吸收峰。
英文摘要The keV N+ ions were implanted into several kinds of amino acids in solid state.The EPR and infrared(皿)spectroscopy were applied to study the induced damage. It was shown that severe implantation damages arose, the molecule decomposed, the IR,absorption became weak and a great number of fragments were formed. And the radical fragments' type and quantity sensitively varied with fluence of the implantedions. Some of the fragments were even recomposed to form new chemical compounds,among which amides and new amino acids were the most probable forms.
学科主题空间环境
资助信息国家自然科学基金
语种中文
内容类型期刊论文
源URL[http://ir.cssar.ac.cn/handle/122/48]  
专题国家空间科学中心_保障部/保障与试验验证中心
推荐引用方式
GB/T 7714
韩建伟,余增亮. keV量级的N~+注入引起的氨基酸分子损伤[J]. 核技术,1999,22(4):200-204.
APA 韩建伟,&余增亮.(1999).keV量级的N~+注入引起的氨基酸分子损伤.核技术,22(4),200-204.
MLA 韩建伟,et al."keV量级的N~+注入引起的氨基酸分子损伤".核技术 22.4(1999):200-204.
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