题名Co掺杂ZnO稀磁半导体的制备与磁性研究
作者曹萍
学位类别博士
答辩日期2008-05-16
授予单位中国科学院长春光学精密机械与物理所
授予地点长春光学精密机械与物理所
导师申德振
关键词稀磁半导体 Co掺杂ZnO 磁性 p型掺杂
其他题名The fabrication and magnetic propertiesof Co doped ZnO diluted magnetic semiconductors
学位专业凝聚态物理
中文摘要ZnO是一种宽带隙的半导体材料,室温下禁带宽度为3.37 eV,激子束缚能高达60 meV,具有优良的物理和化学性质,是目前光电子研究领域的热点。由于理论预测在过渡金属掺杂的ZnO中能够实现室温以上的铁磁性,因此ZnO基稀磁半导体的研究引起了相当广泛的重视。本论文围绕Co 掺杂ZnO稀磁半导体材料中的磁性来源问题,针对载流子等对Co 掺杂ZnO磁性的影响,利用电化学沉积方法和溶胶-凝胶方法制备了一系列Co掺杂ZnO的薄膜,并采用共掺杂方法在ZnO:Co薄膜中分别引入空穴和电子,通过对其结构、光电性质及磁性系统的分析,阐明了Co掺杂ZnO的磁性来源。主要结果如下: 1. 采用不同方法制备的ZnCoO薄膜,虽然其电子浓度达到1015-1016 cm-3,但都是顺磁性的,其本身具有的电子不能够诱导薄膜产生铁磁性,只有在另外引入空穴或电子的情况下,才能够增强铁磁交换作用,从而使ZnO:Co薄膜在室温产生铁磁性。 2. 利用PECVD系统中的NH3等离子体对本征氧化锌进行后处理,我们获得了p-ZnO薄膜,载流子浓度为1016,证明通过化学扩散方法可以使N替代O进入到ZnO晶格中,成为受主,使得样品由n型转为p型。 3. 我们通过电化学沉积方法生长了不同Co浓度掺杂ZnO的薄膜,但没有获得室温下的铁磁性。通过NH3等离子体的后处理,有一部分N原子进入了ZnO晶格替代了一部分O格位,由于存在空穴间接交换作用,产生了被束缚的磁极子,从而导致ZnCoO薄膜产生了室温下的铁磁性。 4. 利用溶胶-凝胶方法成功将不同浓度Cu离子掺入到一定Co2+掺杂浓度的ZnCoO薄膜,XPS的结果证明Cu离子在样品中的化合价为+1价。电学测量表明样品在Cu掺杂前后实现了转型,从n型变为p型。有Cu+离子掺杂的样品都在室温下具有铁磁性,而且随着Cu离子的掺杂浓度增加饱和磁矩也是增加的。 5. 利用溶胶-凝胶方法成功将不同浓度Al3+掺入到一定Co2+掺杂浓度的ZnCoO薄膜,并且观察到有Al离子掺杂的样品在室温下都具有铁磁性,而且随着Al离子的掺杂浓度增加饱和磁矩也是增加的。
语种中文
公开日期2012-03-21
页码90
内容类型学位论文
源URL[http://159.226.165.120//handle/181722/667]  
专题长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出
推荐引用方式
GB/T 7714
曹萍. Co掺杂ZnO稀磁半导体的制备与磁性研究[D]. 长春光学精密机械与物理所. 中国科学院长春光学精密机械与物理所. 2008.
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