直流负偏压对类金刚石薄膜结构的影响 | |
常海波 ; 徐洮 ; 张治军 ; 刘惠文 | |
刊名 | 化学研究 |
2005 | |
卷号 | 16期号:1页码:35-38 |
关键词 | 直流负偏压 类金刚石薄膜 等离子体 气相沉积 DC negative bias diamond-like carbon films plasma vapor deposition |
ISSN号 | 1008-1011 |
中文摘要 | 在不同的直流负偏压下利用直流射频等离子体辅助化学气相沉积技术在单晶硅表面沉积得到了类金刚石薄膜, 用拉曼光谱、红外光谱和原子力显微镜对薄膜的结构和形貌进行了表征. 结果表明: 无偏压时, 沉积得到的薄膜呈现类聚合物结构且表面比较粗糙, 而叠加了偏压后, 薄膜表现出类金刚石薄膜的结构特征, 随着偏压的增大, 膜中的氢含量和sp3碳含量均逐渐减小, 且薄膜的表面粗糙度逐渐减小. |
学科主题 | 材料科学与物理化学 |
资助信息 | 国家“863”计划资助项目(2002AA302607) |
语种 | 中文 |
公开日期 | 2014-03-03 |
内容类型 | 期刊论文 |
源URL | [http://210.77.64.217/handle/362003/5214] |
专题 | 兰州化学物理研究所_固体润滑国家重点实验室 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 常海波,徐洮,张治军,等. 直流负偏压对类金刚石薄膜结构的影响[J]. 化学研究,2005,16(1):35-38. |
APA | 常海波,徐洮,张治军,&刘惠文.(2005).直流负偏压对类金刚石薄膜结构的影响.化学研究,16(1),35-38. |
MLA | 常海波,et al."直流负偏压对类金刚石薄膜结构的影响".化学研究 16.1(2005):35-38. |
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