有机器件中低温低损伤磁控溅射沉积透明导电薄膜技术的研究进展

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	有机器件中低温低损伤磁控溅射沉积透明导电薄膜技术的研究进展
	雷浩 ; 王美涵 ; 肖金泉 ; 宫骏 ; 孙超
刊名	真空科学与技术学报
	2013-11-15
期号	11 页码:1151-1157
关键词	有机器件低温低损伤磁控溅射综述
中文摘要	传统磁控溅射技术在有机衬底或有机光电材料上沉积透明导电氧化物阴极薄膜时,荷能粒子轰击有机衬底或有机光电材料会造成衬底或材料的温升和结构损伤,最终影响有机光电器件的性能与寿命,因此实现有机器件中透明导电阴极薄膜的低温低损伤磁控溅射制备过程是一个非常重要的研究课题。本文总结了过去十几年来低温低损伤磁控溅射沉积透明导电薄膜技术的进展,并提出了在确保低温低损伤溅射沉积的前提下,解决薄膜沉积速率较慢、靶材利用率较低和薄膜均匀性较差等问题的途径。探索出一种低温低损伤高速沉积性能优异透明导电薄膜的制备技术,是提高有机光电器件性能的关键。
语种	中文
公开日期	2014-02-18
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/72294]
专题	金属研究所_中国科学院金属研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	雷浩,王美涵,肖金泉,等. 有机器件中低温低损伤磁控溅射沉积透明导电薄膜技术的研究进展[J]. 真空科学与技术学报,2013(11):1151-1157.
APA	雷浩,王美涵,肖金泉,宫骏,&孙超.(2013).有机器件中低温低损伤磁控溅射沉积透明导电薄膜技术的研究进展.真空科学与技术学报(11),1151-1157.
MLA	雷浩,et al."有机器件中低温低损伤磁控溅射沉积透明导电薄膜技术的研究进展".真空科学与技术学报 .11(2013):1151-1157.