电解等离子体法制备Al_2O_3陶瓷层及其特性研究

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	电解等离子体法制备Al_2O_3陶瓷层及其特性研究
	顾伟超 ; 沈德久 ; 王玉林 ; 陈光良 ; 冯文然 ; 张谷令 ; 刘赤子 ; 杨思泽
刊名	物理学报
	2005
卷号	54 期号:7 页码:3263-3267
公开日期	2013-09-23
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.iphy.ac.cn/handle/311004/47684]
专题	物理研究所_物理所公开发表论文_物理所公开发表论文_期刊论文
推荐引用方式 GB/T 7714	顾伟超,沈德久,王玉林,等. 电解等离子体法制备Al_2O_3陶瓷层及其特性研究[J]. 物理学报,2005,54(7):3263-3267.
APA	顾伟超.,沈德久.,王玉林.,陈光良.,冯文然.,...&杨思泽.(2005).电解等离子体法制备Al_2O_3陶瓷层及其特性研究.物理学报,54(7),3263-3267.
MLA	顾伟超,et al."电解等离子体法制备Al_2O_3陶瓷层及其特性研究".物理学报 54.7(2005):3263-3267.