液氮温度下Si~+离子注入对急冷Al-Si-Ge合金超导电性的影响

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	液氮温度下Si~+离子注入对急冷Al-Si-Ge合金超导电性的影响
	赵光林 ; 刘家瑞 ; 周俊思 ; 郑家祺 ; 陈熙琛 ; 王祖仑 ; 郗小星 ; 李政孝 ; 管惟炎
刊名	低温物理
	1984
期号	1 页码:20-22
语种	中文
公开日期	2013-09-23
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.iphy.ac.cn/handle/311004/43805]
专题	物理研究所_物理所公开发表论文_物理所公开发表论文_期刊论文
推荐引用方式 GB/T 7714	赵光林,刘家瑞,周俊思,等. 液氮温度下Si~+离子注入对急冷Al-Si-Ge合金超导电性的影响[J]. 低温物理,1984(1):20-22.
APA	赵光林.,刘家瑞.,周俊思.,郑家祺.,陈熙琛.,...&管惟炎.(1984).液氮温度下Si~+离子注入对急冷Al-Si-Ge合金超导电性的影响.低温物理(1),20-22.
MLA	赵光林,et al."液氮温度下Si~+离子注入对急冷Al-Si-Ge合金超导电性的影响".低温物理 .1(1984):20-22.