高功率脉冲磁控溅射类石墨润滑薄膜的结构与性能研究
汪爱英
2012-07-27
会议名称全国青年摩擦学学术会议
会议日期2012-07-27
会议地点徐州
页码1—1
通讯作者汪爱英
中文摘要高功率脉冲磁控溅射技术(HIPIMS)作为一种溅射粒子离化率高、可以沉积致密、高性能薄膜的新技术已经在国外广泛研究。本文研究不同脉冲电压对高功率脉冲磁控溅射技术(HIPIMS)制备类石墨(GLC)非晶碳膜结构和性能影响,并与直流磁控溅射(dc-MS)制备的薄膜相比较;采用X射线光电子能谱(XPS)、拉曼光谱仪、原子力显微镜(AFM)和纳米压痕仪分析了薄膜的结构和力学性能;通过球盘式摩擦试验机测试了薄膜在大气环境下的摩擦性能。结果表明:制备的薄膜主要由sp2键组成,属于典型的GLC薄膜,HIPIMS技术更有利于产生sp2键;由HIPIMS制备的类石墨薄膜随脉冲电压的增大,硬度和sp3含量先增大后降低,内应力逐渐增高,粗糙度逐渐降低。HIPIMS制备的GLC薄膜摩擦学性能优于dc-MS制备的GLC薄膜,薄膜的摩擦学性能与sp2含量相关。
会议录全国青年摩擦学学术会议
会议录出版地徐州
内容类型会议论文
源URL[http://ir.nimte.ac.cn/handle/174433/10148]  
专题宁波材料技术与工程研究所_宁波所知识产出
推荐引用方式
GB/T 7714
汪爱英. 高功率脉冲磁控溅射类石墨润滑薄膜的结构与性能研究[C]. 见:全国青年摩擦学学术会议. 徐州. 2012-07-27.
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