偏压及测试环境对新型MoS2-Ti复合膜摩擦学性能的影响

	偏压及测试环境对新型MoS2-Ti复合膜摩擦学性能的影响
	汪爱英
	2012-07-27
会议名称	全国青年摩擦学学术会议
会议日期	2012-07-27
会议地点	徐州
页码	1—1
通讯作者	汪爱英
中文摘要	采用新型高功率脉冲复合磁控溅射技术（HIPIMS）沉积MoS2-Ti复合膜，并研究基体偏压和测试环境对复合膜摩擦学性能的影响。结果表明：制备的MoS2-Ti复合膜表面呈现颗粒状结构。随着基体负偏压从0V增大到350V，复合膜的S/Mo原子比逐渐减小。在-300 V偏压下，薄膜表面的颗粒堆积最为紧密，薄膜硬度和弹性模量达到最大值，并具有最低的平均摩擦系数值（0.04）和磨损率（10-7 mm3N-1m-1）。考察多种测试环境下的摩擦学研究显示：在室温大气环境下复合膜的摩擦学性能与其结构的致密性紧密相关，而在不同湿度环境以及液压油环境下表现出优异的摩擦学性能则归因于在摩擦过程中能够有效的形成转移膜。
会议录	全国青年摩擦学学术会议
会议录出版地	徐州
内容类型	会议论文
源URL	[http://ir.nimte.ac.cn/handle/174433/10147]
专题	宁波材料技术与工程研究所_宁波所知识产出
推荐引用方式 GB/T 7714	汪爱英. 偏压及测试环境对新型MoS2-Ti复合膜摩擦学性能的影响[C]. 见:全国青年摩擦学学术会议. 徐州. 2012-07-27.