射频交替溅射法制备的NiZn 铁氧体薄膜的结构与磁性
王海波 ; 孙建荣 ; 王兰喜 ; 魏福林 ; 王 丽 ; 王建波 ; 李发伸 ; 沈宝龙
刊名宁波大学学报(理工版)
2010
期号1
关键词NiZn 铁氧体 薄膜 溅射 穆斯堡尔谱
合作状况其它
中文摘要使用交替靶射频溅射的方法在不同基底上制备得到了成分为NixZn1-xFe2O4 的铁氧体薄膜, 研究了NiZn 铁氧体薄膜的生长条件, 探讨了不同工艺条件对薄膜性能的影响, 目的是提高薄膜 饱和磁化强度Ms, 降低薄膜矫顽力Hc, 改善薄膜的软磁性能, 以满足其在高频薄膜器件应用方 面的需要. 实验表明: 沉积态薄膜即为尖晶石结构. 并且通过不同实验条件对NiZn 铁氧体薄膜 性能影响的研究, 得到了最佳的NiZn 铁氧体薄膜的制备条件.
收录类别其他
语种中文
公开日期2010-07-22
内容类型期刊论文
源URL[http://ir.nimte.ac.cn/handle/174433/546]  
专题宁波材料技术与工程研究所_宁波所知识产出
推荐引用方式
GB/T 7714
王海波,孙建荣,王兰喜,等. 射频交替溅射法制备的NiZn 铁氧体薄膜的结构与磁性[J]. 宁波大学学报(理工版),2010(1).
APA 王海波.,孙建荣.,王兰喜.,魏福林.,王 丽.,...&沈宝龙.(2010).射频交替溅射法制备的NiZn 铁氧体薄膜的结构与磁性.宁波大学学报(理工版)(1).
MLA 王海波,et al."射频交替溅射法制备的NiZn 铁氧体薄膜的结构与磁性".宁波大学学报(理工版) .1(2010).
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