一种反铁电薄膜的制备方法; 一种反铁电薄膜的制备方法
李润伟 ; 左正笏 ; 詹清峰 ; 陈斌 ; 杨华礼 ; 刘宜伟
2013-01-23
专利国别中国
专利类型发明
权利人中国科学院宁波材料技术与工程研究所
中文摘要本发明提供了一种反铁电薄膜的制备方法。该方法采用由硅片层、中间层和铂薄膜组成的镀铂硅片;首先,将镀铂硅片放入腐蚀溶液中,使中间层与腐蚀溶液反应,铂薄膜从硅片上脱离;然后,将铂薄膜转移到去离子水中清洗;之后,将铂薄膜转移到与铂不反应的耐高温衬底上并干燥;最后,在铂薄膜上制备反铁电薄膜。与现有技术相比,本发明制得的反铁电薄膜脱离了衬底的束缚,实验证实有效提高了反铁电薄膜的能量存储密度,同时也提高了其能量转换效率,作为储能元件具有广泛的应用前景。
公开日期2013-12-16
专利申请号CN201210332301.5
专利代理陈英俊
内容类型专利
源URL[http://ir.nimte.ac.cn/handle/174433/10915]  
专题宁波材料技术与工程研究所_专利成果
推荐引用方式
GB/T 7714
李润伟,左正笏,詹清峰,等. 一种反铁电薄膜的制备方法, 一种反铁电薄膜的制备方法. 2013-01-23.
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