QQ客服 官方微博 反馈留言

	一种多孔氧化铝基相位透射光栅的制备方法; 一种多孔氧化铝基相位透射光栅的制备方法
	杨毅 ; 王彪 ; 许高杰 ; 崔平
	2012-09-19
专利国别	中国
专利类型	发明
权利人	中国科学院宁波材料技术与工程研究所
中文摘要	本发明涉及一种多孔氧化铝基相位透射光栅的制备方法，先在透明硬质光学基片表面采用磁控溅射或化学气相沉积的方法镀制一层透明导电氧化物层；再采用溅射或蒸发的方法在透明导电氧化物层镀制一层纯度大于99.99％的高纯铝薄膜；然后制备成多孔氧化铝薄膜；在多孔氧化铝薄膜表面覆盖一层厚度为0.5～1.5μm的光刻胶；采用光刻技术将预定的光栅条纹结构刻制在样品表面的光刻胶上；接着进行化学刻蚀，将样品表面光刻胶层刻有的光栅条纹结构转移到透明导电光学基片表面的多孔氧化铝薄膜内部；最后去除表面残留的光刻胶，得到所需的多孔氧化铝基相位透射光栅；采用本发明的制备方法可以在透明硬质基片上实现大面积、高线密度相位透射光栅的高效率低成本制造，并且容易获得较高的相位光栅结构深度和周期之比。
公开日期	2013-12-16
专利申请号	CN201110058407.6
专利代理	袁忠卫
内容类型	专利
源URL	[http://ir.nimte.ac.cn/handle/174433/10799]
专题	宁波材料技术与工程研究所_专利成果
推荐引用方式 GB/T 7714	杨毅,王彪,许高杰,等. 一种多孔氧化铝基相位透射光栅的制备方法, 一种多孔氧化铝基相位透射光栅的制备方法. 2012-09-19.

个性服务

查看访问统计

相关权益政策

暂无数据

收藏/分享

除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。