| 氩离子溅射刻蚀对Ti-Si-C纳米复合薄膜XPS分析的影响 | |
| 姜金龙; 陈娣; 王琼; 杨华; 魏智强 | |
| 刊名 | 稀有金属材料与工程
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| 2014-04-15 | |
| 期号 | 2014年04期页码:977-981 |
| 关键词 | Ti-Si-C纳米复合薄膜 氩离子溅射刻蚀 X射线光电子能谱 键合结构 |
| ISSN号 | ISSN：1002-185X |
| 英文摘要 | 通过中频非平衡磁控溅射Ti80Si20复合靶在氩气和甲烷混合气氛中沉积Ti-Si-C复合薄膜。采用X射线衍射仪、Raman光谱和X射线光电子能谱分析薄膜微结构。结果显示:制备的薄膜为非晶碳(a-C:Si:H)包裹约10 nm TiC晶粒的复合结构,氩离子溅射刻蚀对XPS分析结果有显著影响。随氩离子刻蚀溅射刻蚀时间增加,薄膜表面C、O原子含量明显降低,而Ti、Si原子含量增加。氩离子溅射刻蚀导致薄膜非晶碳相发生石墨化转变,即sp3C-C(H)/sp2C-C比率减小,同时,C-Ti*/C-Ti和C-(Ti+Ti*)/C-C强度比明显增加。 |
| URL标识 | 查看原文 |
| 语种 | 中文 |
| 内容类型 | 期刊论文 |
| 源URL | [http://119.78.100.223/handle/2XXMBERH/8948]  |
| 专题 | 理学院 |
| 作者单位 | 1.中国科学研究院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室 2.兰州理工大学 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 姜金龙,陈娣,王琼,等. 氩离子溅射刻蚀对Ti-Si-C纳米复合薄膜XPS分析的影响[J]. 稀有金属材料与工程,2014(2014年04期):977-981. |
| APA | 姜金龙,陈娣,王琼,杨华,&魏智强.(2014).氩离子溅射刻蚀对Ti-Si-C纳米复合薄膜XPS分析的影响.稀有金属材料与工程(2014年04期),977-981. |
| MLA | 姜金龙,et al."氩离子溅射刻蚀对Ti-Si-C纳米复合薄膜XPS分析的影响".稀有金属材料与工程 .2014年04期(2014):977-981. |
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