基于双磁场磁性复合流体的抛光性能

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	基于双磁场磁性复合流体的抛光性能
	王有良 1; 史小锋 1; 陈秀娟 1; 张文娟 1; 冯铭 2
刊名	表面技术
	2022-04-11
页码	1-12
关键词	磁性复合流体双磁场抛光性能表面粗糙度磁场分布成形特征
英文摘要	目的针对微结构抛光过程中形貌精度损伤的问题，开发一种环状MCF (Magneticcompoundfluid，MCF)抛光工具，探究双磁场作用下MCF 工具的抛光性能。方法采用工业相机观察不同条件下MCF 抛光工具的成形特征，通过定量分析MCF 抛光工具成形参数，构建最优MCF 抛光工具特征参数；通过分析双磁场作用下工件表面磁场强度，建立磁场矢量模型，探究磁场分布与MCF 宏观形貌的内在联系；观察磁簇微观形貌，分析MCF 抛光工具的内部特征；试验研究MCF 组分、磁铁转速n_(m)、载液板转速n_(c) 和加工间隙 Δ对工件表面粗糙度Ra 的影响规律，探究最优抛光参数。结果当磁铁偏心距r = 2 mm，MCF 供应量V = 1.5 mL 时，MCF 抛光工具成形特征最优，MCF 工具各参数为：a = 28.70mm、b = 26.90mm、c_(1) = 1.58 mm、c_(2) = 1.30mm、d_(0) = 48.60mm、h = 7.20mm、d_(i) = 26.50mm；磁簇分布方向与磁场矢量方向一致，铁粉沿着磁力线方向分布，磨粒分布在铁粉外部，α-纤维穿插于磁簇内部或磁簇与磁簇之间；通过抛光试验获得较低表面粗糙度的最佳工艺参数为：最佳MCF 组分配比为40 wt.% 羰基铁粉、12 wt.% 磨粒、3 wt.%α-纤维和45 wt.% 水基磁流体，最佳载液板转速n_(c) = 300 r/min，最佳磁铁转速n_(m) = 400 r/min，最佳加工间隙Δ= 1mm。结论工件抛光20 min 后表面粗糙度由 0.578μm降低至 0.009μm，下降率为98.44%，证明双磁场作用下环状MCF 抛光工具具有稳定且高效的抛光能力。
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语种	中文
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.lut.edu.cn/handle/2XXMBERH/157735]
专题	机电工程学院省部共建有色金属先进加工与再利用国家重点实验室
作者单位	1.兰州理工大学; 2.温州大学
推荐引用方式 GB/T 7714	王有良,史小锋,陈秀娟,等. 基于双磁场磁性复合流体的抛光性能[J]. 表面技术,2022:1-12.
APA	王有良,史小锋,陈秀娟,张文娟,&冯铭.(2022).基于双磁场磁性复合流体的抛光性能.表面技术,1-12.
MLA	王有良,et al."基于双磁场磁性复合流体的抛光性能".表面技术 (2022):1-12.