| 题名 | 深紫外波段光学薄膜制备技术研究 |
| 作者 | 田俊林 |
| 学位类别 | 硕士 |
| 答辩日期 | 2009-05-25 |
| 授予单位 | 中国科学院光电技术研究所 |
| 授予地点 | 光电技术研究所 |
| 导师 | 申林 |
| 关键词 | 光学薄膜 深紫外 铝 氟化物 增透膜 高反膜 热蒸发 |
| 其他题名 | Research on fabrication of optical thin-film coatings in deep ultra-violet spectral range |
| 学位专业 | 光学工程 |
| 中文摘要 | 随着激光技术的不断发展，以准分子激光器、自由电子激光器以及全固态深紫外激光器为代表的深紫外激光光源相继出现。这些深紫外激光光源在微电子器件制造、材料微细加工、深紫外激光光谱、生物医学工程等领域都有着非常广阔的应用前景。 深紫外激光光源的快速发展及广泛应用对深紫外波段光学薄膜提出了迫切的要求。这些要求包括光谱性能、机械性能、环境稳定性能、抗激光损伤性能等等。 当前，能够应用于深紫外波段的镀膜材料主要包括金属铝、高带宽氧化物以及氟化物。由于氧化物材料的吸收边较长，不适宜应用于深紫外波段的短波范围，因此本文主要研究介质增强型铝镜以及全介质氟化物薄膜元件的设计与制备。其中，氟化物材料包括AlF3、MgF2、LaF3和GdF3。 本文利用Essential Macleod膜系设计软件对Al+MgF2组合在175~210nm波段范围内进行设计与优化。基于经改造的A700Q真空镀膜机采用热蒸发的方式制备了Al+MgF2组合的介质增强型铝镜，在190~210nm波段范围内，介质增强型铝镜的反射率达到82.5~84%。 利用Essential Macleod膜系设计软件对熔融石英和CaF2基片、AlF3和MgF2两种低折射率材料、LaF3和GdF3两种高折射率材料所构成的八种组合分别设计了193nm增透膜、177.3nm增透膜以及175~210nm波段宽带增透膜。基于ZZS800真空镀膜机，在紫外级熔融石英基片上，采用热舟蒸发的方式沉积紫外级AlF3和LaF3材料，镀制了利用Essential Macleod软件设计优化的宽带增透膜，在190~210nm波段范围内透过率达到94.68~97.81%。 利用Essential Macleod膜系设计软件对CaF2基片、AlF3和MgF2两种低折射率材料、LaF3和GdF3两种高折射率材料所构成的四种组合分别设计了193nm高反膜和177.3nm高反膜。 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2013-11-19 |
| 页码 | 85 |
| 内容类型 | 学位论文 |
| 源URL | [http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/363]  |
| 专题 | 光电技术研究所_光电技术研究所博硕士论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 田俊林. 深紫外波段光学薄膜制备技术研究[D]. 光电技术研究所. 中国科学院光电技术研究所. 2009. |
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