电解液温度对镁合金微弧氧化成膜过程的影响

	电解液温度对镁合金微弧氧化成膜过程的影响
	马跃洲 ; 马凤杰 ; 陈明 ; 陈海涛
刊名	兰州理工大学学报
	2008-06-15
期号	2008年03期页码:25-28
关键词	温度起弧电压厚度表面形貌
ISSN号	ISSN：1673-5196
英文摘要	采用硅酸钠体系溶液,制备镁合金微弧氧化陶瓷层.研究电解液温度对镁合金微弧氧化起弧电压、陶瓷层厚度以及微弧氧化膜层表面形貌的影响.结果表明,随着电解液温度的升高,镁合金微弧氧化的起弧电压降低,陶瓷层厚度和膜层上孔洞的尺寸增大.适当地升高电解液的温度可以提高生产效率,但是电解液的温度不能过高,否则会影响膜层的质量.
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语种	中文
内容类型	期刊论文
源URL	[http://119.78.100.223/handle/2XXMBERH/18923]
专题	材料科学与工程学院企业单位划归国资委人员
作者单位	1.兰州理工大学材料科学与工程学院甘肃兰州730050 2.兰州理工大学材料科学与工程学院 3.兰州理工大学甘肃省有色金属新材料重点实验室
推荐引用方式 GB/T 7714	马跃洲,马凤杰,陈明,等. 电解液温度对镁合金微弧氧化成膜过程的影响[J]. 兰州理工大学学报,2008(2008年03期):25-28.
APA	马跃洲,马凤杰,陈明,&陈海涛.(2008).电解液温度对镁合金微弧氧化成膜过程的影响.兰州理工大学学报(2008年03期),25-28.
MLA	马跃洲,et al."电解液温度对镁合金微弧氧化成膜过程的影响".兰州理工大学学报 .2008年03期(2008):25-28.