组织和温度对Cu表面氧化速率的影响
曹军; 丁雨田; 卢振华; 胡勇
刊名材料热处理学报
2011-12-25
期号2011年12期页码:147-150
关键词单晶铜 多晶铜 氧化速率 等径角挤压(ECAP)
ISSN号ISSN:1009-6264
DOI10.13289/j.issn.1009-6264.2011.12.029
英文摘要利用扫描电镜、X射线衍射仪和氧化称重实验对铜表面氧化速率进行研究,分析了不同组织、晶粒和温度对铜氧化性能的影响。结果表明:铜的组织结构是影响其氧化性能的主要因素,非密排的(100)晶面上界面能高、晶面原子堆垛相对疏松和原子尺度上粗糙,且氧化膜生长连续,氧化速率高于密排的(111)晶面;温度升高,铜表面的内能增大,铜原子较易成为活化原子与氧气发生反应,同时增大了铜原子在氧化膜中的扩散速率,加速了铜的氧化;铜试样经过等径角挤压(ECAP)后,(111)晶面铜表面的面积增大,氧化速率降低,晶界不是影响铜氧化速率的主要因素,能量较小的晶面原子所占的面积增大,铜的氧化速率减小。
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语种中文
内容类型期刊论文
源URL[http://119.78.100.223/handle/2XXMBERH/12511]  
专题省部共建有色金属先进加工与再利用国家重点实验室
材料科学与工程学院
作者单位兰州理工大学有色金属新材料国家重点实验室
推荐引用方式
GB/T 7714
曹军,丁雨田,卢振华,等. 组织和温度对Cu表面氧化速率的影响[J]. 材料热处理学报,2011(2011年12期):147-150.
APA 曹军,丁雨田,卢振华,&胡勇.(2011).组织和温度对Cu表面氧化速率的影响.材料热处理学报(2011年12期),147-150.
MLA 曹军,et al."组织和温度对Cu表面氧化速率的影响".材料热处理学报 .2011年12期(2011):147-150.
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