| 题名 | 纳米氧化亚铜的制备及性能研究 |
| 作者 | 雷丹 |
| 答辩日期 | 2014 |
| 导师 | 王玉棉 |
| 关键词 | 化学沉淀法 颗粒尺寸 光催化 降解率 |
| 学位名称 | 硕士 |
| 英文摘要 | 亚微米级、纳米级的氧化亚铜在光学、电学等方面存在着特殊的性质。纳米Cu20为一种重要的p型半导体材料,禁带宽只有2.0-2.1eV,在可见光照射下便可激发粒子生成具有强氧化还原性的电子-空穴对,在对污染物光催化降解时无需紫外照射、设备简单、原料成本较低等特点,因而探究不同纳米氧化亚铜的制取方法与光催化性能研究变为现阶段纳米材料界的关注焦点。本论文利用简便可行的、效果更佳的化学沉淀法制取较小粒径尺寸、分散性较好、形貌规则的氧化亚铜颗粒。采用X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)系统地研究了不同反应物浓度、反应体系温度、反应时间、表面活性剂种类及表面活性剂用量对产物物相、粒径及形貌的影响。以C6H5NO3为目标降解污染物、以太阳光为照射光源,系统研究了氧化亚铜的加入量、H202体积、C6H5NO3初始浓度、反应体系温度等因素对Cu20催化降解C6H5NO3的降解规律及Cu20重复使用效率。结果表明：NaOH浓度2mol/L,反应温度70℃,PVP用量1.6g/L时,反应时间为4h,所制备的Cu20颗粒粒尺寸最小,且分布均匀,其平均粒径为30nm,形貌为类球形、正方体状。以最佳条件制备的纳米氧化亚铜为催化剂,获得最佳的催化条件：催化剂在0.4g/L、C6H5NO3浓度为20mg/L下、H202的加入量为4ml、pH值为3.5、Cu20的重复次数可达5次。 |
| 语种 | 中文 |
| 页码 | 54 |
| URL标识 | 查看原文 |
| 内容类型 | 学位论文 |
| 源URL | [http://ir.lut.edu.cn/handle/2XXMBERH/90345]  |
| 专题 | 兰州理工大学 |
| 作者单位 | 兰州理工大学 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 雷丹. 纳米氧化亚铜的制备及性能研究[D]. 2014. |
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