低能电子束制备硅基纳米薄膜微结构研究

	低能电子束制备硅基纳米薄膜微结构研究
	陈炯枢 ; 陈学康 ; 刘相 ; 刘建喜
刊名	真空
	2007
卷号	44 期号:6 页码:35-38
关键词	电子束直写曝光选择性化学沉积图案化 electron beam direct- write exposure selective chemical deposition patternization
ISSN号	1002-0322
通讯作者	陈学康
中文摘要	本文提出了一种新颖的结合自组装技术和电子束直写曝光以及选择性化学沉积制备图案化薄膜方法。利用X-射线光电子能谱(XPS), 扫描电子显微镜(SEM), 透射电子显微镜(TEM)紫外可见光谱仪(Analytic Jena AG)进行了表征。结果表明该方法取得了选择性较好的图案化金薄膜微结构图形。文中对胶体金纳米颗粒尺寸的选择以及金薄膜图案的粘附性能也进行了探讨。该方法有望应用于微/纳电子工业中。
学科主题	材料科学与物理化学
收录类别	CSCD
语种	中文
公开日期	2013-11-01
内容类型	期刊论文
源URL	[http://210.77.64.217/handle/362003/4167]
专题	兰州化学物理研究所_固体润滑国家重点实验室
推荐引用方式 GB/T 7714	陈炯枢,陈学康,刘相,等. 低能电子束制备硅基纳米薄膜微结构研究[J]. 真空,2007,44(6):35-38.
APA	陈炯枢,陈学康,刘相,&刘建喜.(2007).低能电子束制备硅基纳米薄膜微结构研究.真空,44(6),35-38.
MLA	陈炯枢,et al."低能电子束制备硅基纳米薄膜微结构研究".真空 44.6(2007):35-38.