化学气相沉积碳化硅

	化学气相沉积碳化硅
	杨艳
	2006
会议名称	第三届全国化学工程与生物化工年会
会议日期	2006-11
会议地点	中国广西南宁
关键词	化学气相沉积:6160 碳化硅:5505 四氯化硅:3424 扫描电子显微镜:2064 过程速率:2022 拉曼光谱:1951 前驱体:1504 堇青石:1429 不同温度:1378 甲烷:1282
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中文摘要	<正>以甲烷,四氯化硅和氢气作为前驱体,堇青石作为沉积基体,采用竖式化学气相沉积炉研究了常压下不同流量,不同温度对化学气相沉积碳化硅过程速率的影响;分别用偏光显微镜、扫描电子显微镜、投射电子显微镜以及拉曼光谱考察了沉积的碳化硅的组织结构和微观结构。研究表明:在化学气相沉积碳化硅的过程中,并不是碳和硅独立沉积的,而是甲烷和四氯化硅生成大分子的碳(氯)硅烷,然后再生成碳化硅。速率明显提高,是因为生成的硅的聚合物活性高。此结论为寻找快速新型致密化途径提供了理论和实验支持。
会议录	第三届全国化学工程与生物化工年会论文摘要集（下）
内容类型	会议论文
源URL	[http://ir.ipe.ac.cn/handle/122111/2568]
专题	过程工程研究所_研究所（批量导入）
推荐引用方式 GB/T 7714	杨艳. 化学气相沉积碳化硅[C]. 见:第三届全国化学工程与生物化工年会. 中国广西南宁. 2006-11.