| 题名 | 微波等离子体化学气相合成氮化钛、氮化硅纳米粉体研究 |
| 作者 | 黄生乔 |
| 学位类别 | 硕士 |
| 答辩日期 | 2002 |
| 授予单位 | 中国科学院过程工程研究所 |
| 授予地点 | 中国科学院过程工程研究所 |
| 导师 | 马兵 |
| 关键词 | 微波等离子体 化学气相沉积 氮化钦 氮化硅 纳米粉体 |
| 学位专业 | 化学工艺 |
| 中文摘要 | 本文对采用微波等离子体化学气相合成技术，利用TiC1a(g)+Nz+H2化学气相反应体系合成氮化钦纳米粉体材料以及利用SiCI4(g)+NZ/NH3化学气相反应体系合成氮化硅纳米粉体材料进行了研究。氮化钦是一种重要的新型结构材料，硬度大，耐磨性能优良，在机械领域中有重要应用。氮化硅是重要的高温结构材料，氮化硅陶瓷在高韧性、高温高强度、高硬度、耐磨蚀、密度低等方面，在高技术工程应用中均表现出显著的优良特性。但氮化钦和氮化硅这两种材料烧结性能较差，用纳米粉体材料可改善烧结性能，因而合成这两种纳米粉体材料具有重要意义。微波等离子体属非平衡的低温等离子体，其中电子温度远远高于重粒子的温度，这种特点可使微波等离子体能在较温和的条件下增强化学反应。在本实验条件下，用一2.45GHz, SkW的微波等离子体化学反应器，在体系压力为一个大气压左右、温度相对较低的条件下，合成了外观呈黑色的氮化钦纳米粉体材料和白色的氮化硅纳米粉体材料。借助于X射线衍射，透射电子显微镜，激光粒度分析，比表面积分析等对粉体的物性进行了研究。仪器的测试分析表明，氮化钦粉体是较完整的纳米颗粒晶、单相的δ-TiN。粉体的大部分呈球形，少数呈正方体形、四面体形和菱方十二面体形，比表面积在30一60mz/g之间，平均粒径在20-40nm之间。氮化硅粉体是白色的无定形体，比表面积在89-412M~2/g之间。 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2013-09-16 |
| 页码 | 71 |
| 内容类型 | 学位论文 |
| 源URL | [http://ir.ipe.ac.cn/handle/122111/1320]  |
| 专题 | 过程工程研究所_研究所（批量导入） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 黄生乔. 微波等离子体化学气相合成氮化钛、氮化硅纳米粉体研究[D]. 中国科学院过程工程研究所. 中国科学院过程工程研究所. 2002. |
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