随着空间科学技术的快速发展，越来越多的半导体器件及集成电路工作于空间复杂而又苛刻的辐射环境中。受电离辐射作用的影响，器件参数会产生不同程度的退化，给宇航系统可靠性带来了严重隐患，这使得研究半导体器件空间辐射效应及其潜在的损伤机理逐渐成为近年来国内外微电子学领域的一个热门课题。由于具有高频、低阻、低噪声和良好的线性度，模拟电路被广泛应用于空间系统电路中。但是由于双极器件和电路中低剂量率辐照损伤增强效应的存在，严重威胁了航天器电子系统的稳定性和可靠性，大大缩短了其使用寿命，因而受到广泛关注。 近年来，国际上投入了大量人力、物力进行了有关双极器件和电路的低剂量率辐射损伤增强效应研究，不仅包括不同偏置、不同剂量率辐照、不同器件类型、不同工艺参数等对器件或电路辐照效应的影响，还开展了各种条件下的加速评估方法研究。虽然研究工作不断深入，但是由于双极晶体管结构及制造工艺均不同于MOS场效应晶体管，受辐照感生电荷分离方法限制，获得的低剂量率辐照损伤失效机理模型，只能定性地描述器件宏观参数变化，对氧化物陷阱电荷和界面陷阱电荷是怎样引起器件参数退化和功能失效并不明朗，从而制约了双极器件抗辐射加固技术的发展。 本文基于Silvaco的半导体工艺和器件的计算机模拟，在国内首次成功研制了可用于辐照实验和电荷分离的、不同工艺参数栅控横向PNP双极晶体管、栅控衬底PNP双极晶体管、栅控横向NPN双极晶体管、栅控纵向NPN双极晶体管以及栅控二极管结构，分析了栅控晶体管在不同外加栅极电压的情况下所处的几种状态，测试了栅控晶体管的常规特性、栅扫描特性以及亚阈扫描特性。借鉴金属-氧化物-半导体场效应晶体管辐照感生缺陷测试原理，成功建立了两种双极器件辐射感生缺陷的测试分析方法——中带电压法和栅扫描法，并定量分离了晶体管辐照感生氧化物陷阱电荷和界面陷阱电荷，从而将晶体管宏观参数退化和产生的微观缺陷联系起来，研究了晶体管高、低剂量率辐照及退火过程中辐照、退火效应及其潜在的失效机理。 不仅对栅控横向PNP双极晶体辐照感生缺陷进行了定量分离，还首次成功地对栅控横向NPN和纵向NPN双极晶体管的辐照感生缺陷进行了定量分离，使双极器件辐照感生缺陷定量分离研究获得突破性进展。在对各种栅控测试结构进行辐射损伤定量分离的基础上，基于空间电荷模型，验证了竞争模型，完善了双极器件低剂量率辐照损伤增强效应的物理机制。此外，研究了晶体管不同剂量率辐照响应规律，以及外加栅极电压对双极晶体管电离辐照的影响，分析了基极电流峰值展宽效应。 本文为研究国产双极器件抗低剂量率辐射损伤提供了一种新的分析方法和测试手段，为完善已提出的空间电荷模型，发展竞争模型提供了理论依据，也为国产抗辐射加固器件的研制和生产提供了方法指导。