外加电磁直流磁控溅射法低温沉积ZnO:Al薄膜的研究

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	外加电磁直流磁控溅射法低温沉积ZnO:Al薄膜的研究
	张小波 ; 裴志亮 ; 肖金泉 ; 宫骏 ; 孙超
	2006-09
会议名称	2006北京国际材料周暨中国材料研讨会
会议日期	2006-09
会议地点	北京
关键词	透明导电薄膜直流磁控溅射法电磁线圈低温沉积电阻率
中文摘要	采用外加电磁线圈直流磁控溅射法低温制备了ZnO:Al透明导电薄膜,研究了不同沉积参数对AZO薄膜电学性能的影响.通过改变外加同轴线圈磁场来改变基片处等离子体密度,并用Langmuir探针进行了测量.研究结果表明:低温沉积(＜100℃)时,增加基片区域等离子体密度可以显著改善AZO薄膜的电阻率及其空间均匀性,同时也改善了表面形貌,并对其机理进行了分析。
会议主办者	中国材料研究学会
会议录	2006北京国际材料周暨中国材料研讨会
语种	中文
内容类型	会议论文
源URL	[http://210.72.142.130/handle/321006/70497]
专题	金属研究所_中国科学院金属研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	张小波,裴志亮,肖金泉,等. 外加电磁直流磁控溅射法低温沉积ZnO:Al薄膜的研究[C]. 见:2006北京国际材料周暨中国材料研讨会. 北京. 2006-09.