氮化铝薄膜发光性能的研究进展

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	氮化铝薄膜发光性能的研究进展
	佟洪波 ; 巴德纯 ; 肖金泉 ; 闻立时
	2005-07-14
会议名称	2005全国真空冶金与表面工程学术会议
会议日期	2005-07-14
会议地点	沈阳
关键词	薄膜氮化铝电致发光发光性能
中文摘要	本文介绍了AlN薄膜物理性质及制备方法；综述了AlN薄膜作为薄膜电致发光(TFEL)器件发光层的研究现状；对AlN薄膜的发光性能的应用前景做了展望。
会议主办者	中国真空学会
会议录	2005'全国真空冶金与表面工程学术会议论文集
语种	中文
内容类型	会议论文
源URL	[http://210.72.142.130/handle/321006/70343]
专题	金属研究所_中国科学院金属研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	佟洪波,巴德纯,肖金泉,等. 氮化铝薄膜发光性能的研究进展[C]. 见:2005全国真空冶金与表面工程学术会议. 沈阳. 2005-07-14.