氮化铝薄膜发光性能的研究进展 | |
佟洪波 ; 巴德纯 ; 肖金泉 ; 闻立时 | |
2005-07-14 | |
会议名称 | 2005全国真空冶金与表面工程学术会议 |
会议日期 | 2005-07-14 |
会议地点 | 沈阳 |
关键词 | 薄膜 氮化铝 电致发光 发光性能 |
中文摘要 | 本文介绍了AlN薄膜物理性质及制备方法;综述了AlN薄膜作为薄膜电致发光(TFEL)器件发光层的研究现状;对AlN薄膜的发光性能的应用前景做了展望。 |
会议主办者 | 中国真空学会 |
会议录 | 2005'全国真空冶金与表面工程学术会议论文集
![]() |
语种 | 中文 |
内容类型 | 会议论文 |
源URL | [http://210.72.142.130/handle/321006/70343] ![]() |
专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 佟洪波,巴德纯,肖金泉,等. 氮化铝薄膜发光性能的研究进展[C]. 见:2005全国真空冶金与表面工程学术会议. 沈阳. 2005-07-14. |
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