温度对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的光学性质的影响 | |
王贺权 ; 沈辉 ; 巴德纯 ; 汪保卫 ; 闻立时 | |
2005-07-14 | |
会议名称 | 2005全国真空冶金与表面工程学术会议 |
会议日期 | 2005-07-14 |
会议地点 | 沈阳 |
关键词 | 二氧化钛薄膜 直流反应 磁控溅射 温度 反射率 光学性质 |
中文摘要 | 本文应用DC(直流)反应磁控溅射设备在硅基底上制备TiO2薄膜,在固定的电源功率下,过控制温度改变TiO2薄膜的光学性质,应用n&kAnalyzer1200测量,温度增加时薄膜的平均反射率降低同时反射低谷向长波方向移动,通过XRD和SEM表征发现,随着温度的增加TiO2的体结构由混晶变为单一的锐钛矿相,薄膜的表面的颗粒由多变少,表面形貌由粗糙多孔变得细腻平滑。 |
会议主办者 | 中国真空学会 |
会议录 | 2005'全国真空冶金与表面工程学术会议论文集
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语种 | 中文 |
内容类型 | 会议论文 |
源URL | [http://210.72.142.130/handle/321006/70331] ![]() |
专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 王贺权,沈辉,巴德纯,等. 温度对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的光学性质的影响[C]. 见:2005全国真空冶金与表面工程学术会议. 沈阳. 2005-07-14. |
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