温度对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的光学性质的影响

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	温度对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的光学性质的影响
	王贺权 ; 沈辉 ; 巴德纯 ; 汪保卫 ; 闻立时
	2005-07-14
会议名称	2005全国真空冶金与表面工程学术会议
会议日期	2005-07-14
会议地点	沈阳
关键词	二氧化钛薄膜直流反应磁控溅射温度反射率光学性质
中文摘要	本文应用DC(直流)反应磁控溅射设备在硅基底上制备TiO2薄膜,在固定的电源功率下,过控制温度改变TiO2薄膜的光学性质，应用n&kAnalyzer1200测量,温度增加时薄膜的平均反射率降低同时反射低谷向长波方向移动，通过XRD和SEM表征发现,随着温度的增加TiO2的体结构由混晶变为单一的锐钛矿相,薄膜的表面的颗粒由多变少,表面形貌由粗糙多孔变得细腻平滑。
会议主办者	中国真空学会
会议录	2005'全国真空冶金与表面工程学术会议论文集
语种	中文
内容类型	会议论文
源URL	[http://210.72.142.130/handle/321006/70331]
专题	金属研究所_中国科学院金属研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	王贺权,沈辉,巴德纯,等. 温度对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的光学性质的影响[C]. 见:2005全国真空冶金与表面工程学术会议. 沈阳. 2005-07-14.