球形微米和纳米级SiO_2生产新工艺

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	球形微米和纳米级SiO_2生产新工艺
	纪崇甲
	2003
会议名称	全国第三届纳米材料和技术应用会议
会议日期	2003
会议地点	江苏南京
页码	76-79
通讯作者	纪崇甲
中文摘要	用直流电弧等离子体技术,熔化和汽化SiO_2经骤冷和集尘,制取球形微米和纳米级SiO_2,可应用于电子封装材料。
会议录	纳米材料和技术应用进展——全国第三届纳米材料和技术应用会议论文集（上卷）.中国材料研究学会,2003,p.76-79
会议录出版者	中国材料研究学会
语种	中文
内容类型	会议论文
源URL	[http://dspace.imech.ac.cn/handle/311007/34706]
专题	力学研究所_力学所知识产出(1956-2008)
通讯作者	纪崇甲
推荐引用方式 GB/T 7714	纪崇甲. 球形微米和纳米级SiO_2生产新工艺[C]. 见:全国第三届纳米材料和技术应用会议. 江苏南京. 2003.