Hf对Pt改性γ’-Ni3Al单相磁控溅射层氧化行为的影响

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	Hf对Pt改性γ’-Ni3Al单相磁控溅射层氧化行为的影响
	牛建民; 王文; 朱圣龙; 王福会
刊名	材料保护
	2012
卷号	45.0 期号:006 页码:15-18
关键词	Ni3（Al，Hf）纳米晶涂层 Pt改性磁控溅射 γ＇-Ni3Al高温合金高温氧化行为
ISSN号	1001-1560
英文摘要	γ＇-Ni3Al高温合金表面溅射纳米晶涂层和铂改性γ＇＋γ＇涂层的成分、结构与基体相近，涂层脆性、相容性等改善明显，但有关改性层抗高温氧化性的研究有待深入。通过磁控溅射方法在γ＇-Ni3Al基高温合金表面沉积Ni3（Al，Hf）纳米晶涂层，在溅射层表面电镀1．5μm的Pt，1150℃扩散退火1h，得到Pt＋Hf改性的γ＇-Ni3Al单相涂层，不含Hf的涂层中没有明显的浓度梯度，而含Hf涂层中则有明显的浓度梯度。通过场发射扫描电镜（EFG—SEM）、X射线衍射（XRD）、电子探针（EPMA）和能谱（EDX）分析了涂层的结构与成分，考察了Pt改性γ＇-Ni3Al单相涂层在l050oC下空气中的氧化行为。结果表明：不合Hf的涂层生成外层为NiAl2O4、内层为Al2O3的复合氧化膜，含Hf的涂层均生成单一的Al2O3膜，Hf促进了Al的选择性氧化。适当含量的Hf降低了Pt改性γ＇-Ni3Al涂层的氧化速率，但是过高含量的Hf则使得涂层的氧化速率升高。
语种	中文
CSCD记录号	CSCD:4629819
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/142413]
专题	金属研究所_中国科学院金属研究所
作者单位	中国科学院金属研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	牛建民,王文,朱圣龙,等. Hf对Pt改性γ’-Ni3Al单相磁控溅射层氧化行为的影响[J]. 材料保护,2012,45.0(006):15-18.
APA	牛建民,王文,朱圣龙,&王福会.(2012).Hf对Pt改性γ’-Ni3Al单相磁控溅射层氧化行为的影响.材料保护,45.0(006),15-18.
MLA	牛建民,et al."Hf对Pt改性γ’-Ni3Al单相磁控溅射层氧化行为的影响".材料保护 45.0.006(2012):15-18.