NA1.35投影光刻光学系统偏振像差的优化

doi:10.5768/jao201940.0401008

	NA1.35投影光刻光学系统偏振像差的优化
	李杰[1,2]; 林妩媚[1]; 廖志杰[1]
刊名	应用光学
	2019
卷号	40 期号:4 页码:575-582
关键词	光学设计偏振像差薄膜光学 Jones光瞳成像对比度
DOI	10.5768/jao201940.0401008
文献子类	期刊论文
英文摘要	为了实现NA1.35投影光刻光学系统高质量成像,在设计过程中除了控制波像差,还需进一步优化光学系统的偏振像差。利用Jones光瞳和物理光瞳表达了NA1.35投影光刻光学系统的偏振像差,并用二向衰减量与延迟量分析了光学系统偏振像差的大小;根据光线入射到不同光学面上最大入射角度的不同,为每个光学面设计相应的膜系以优化光学系统的偏振像差。相比于采用常规膜系,膜系优化后NA1.35投影光刻光学系统的二向衰减量和延迟量分别减小到了0.021 8、0.057 2 rad,即减小了光学系统的偏振像差。利用Prolith光刻仿真软件,分别对采用常规膜系和优化膜系的NA1.35投影光刻光学系统进行曝光性能仿真,结果显示:膜系优化后光学系统的成像对比度提高了4.4%,证明了NA1.35投影光刻光学系统偏振像差优化方法的有效性。
语种	中文
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/9875]
专题	超精密总体部
作者单位	1.中国科学院光电技术研究所,四川成都610000 2.中国科学院大学,北京100049
推荐引用方式 GB/T 7714	李杰[1,2],林妩媚[1],廖志杰[1]. NA1.35投影光刻光学系统偏振像差的优化[J]. 应用光学,2019,40(4):575-582.
APA	李杰[1,2],林妩媚[1],&廖志杰[1].(2019).NA1.35投影光刻光学系统偏振像差的优化.应用光学,40(4),575-582.
MLA	李杰[1,2],et al."NA1.35投影光刻光学系统偏振像差的优化".应用光学 40.4(2019):575-582.