电子束蒸发球面夹具系统膜厚均匀性的研究

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	电子束蒸发球面夹具系统膜厚均匀性的研究
	潘永刚 2; 刘政 2; 王奔 1; 张四宝 2; 吕辰瑞 2
刊名	激光与光电子学进展
	2021
卷号	58 期号:5
关键词	薄膜均匀性电子束蒸发球面夹具修正挡板
ISSN号	1006-4125
产权排序	1
英文摘要	基于电子束蒸发小面源非余弦膜厚的分布公式,研究了电子束蒸发球面夹具系统光学薄膜厚度的分布均匀性。同时建立数学模型,通过MathCAD编程求解修正挡板的形状及摆放位置,控制光学薄膜厚度的分布均匀性。以蒸发Ta_2O_5薄膜为例,优化修正挡板的位置及形状,并制备厚度为600 nm的Ta_2O_5单层薄膜。实验结果表明,采用该模型优化设计的修正挡板,实际厚度不均匀性为0.6%,验证了该模型的可行性与正确性。
语种	中文
CSCD记录号	CSCD:6953000
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/94947]
专题	先进光学元件试制中心
作者单位	1.上海米蜂激光科技有限公司, 上海 200120, 中国 2.中国科学院西安光学精密机械研究所, 西安, 陕西 710119, 中国
推荐引用方式 GB/T 7714	潘永刚,刘政,王奔,等. 电子束蒸发球面夹具系统膜厚均匀性的研究[J]. 激光与光电子学进展,2021,58(5).
APA	潘永刚,刘政,王奔,张四宝,&吕辰瑞.(2021).电子束蒸发球面夹具系统膜厚均匀性的研究.激光与光电子学进展,58(5).
MLA	潘永刚,et al."电子束蒸发球面夹具系统膜厚均匀性的研究".激光与光电子学进展 58.5(2021).