一种盘型激光器件
张昭宇; 周陶杰; 项国洪; 方铉; 项博媛
2019-04-16
著作权人香港中文大学(深圳)
专利号CN109638647A
国家中国
文献子类发明申请
其他题名一种盘型激光器件
英文摘要本发明公开了一盘型激光器件包括衬底、形成于所述衬底上的缺陷抑制层、形成于所述缺陷抑制层上的缓冲层、形成于所述缓冲层上的牺牲层及形成于所述牺牲层上的有源区;所述盘型激光器件的直径为0.5~10um。本发明的盘型激光器件包括衬底、形成于衬底上的缺陷抑制层、形成于缺陷抑制层上的缓冲层、形成于缓冲层上的牺牲层及形成于牺牲层上的有源区;盘型激光器件的直径为0.5~10um;不仅尺寸小,能够很好地应用于大面积及高密度集成的硅基光芯片,且该盘型激光器件具有优良的发光强度及阈值。
公开日期2019-04-16
申请日期2018-12-24
状态申请中
内容类型专利
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/92380]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位香港中文大学(深圳)
推荐引用方式
GB/T 7714
张昭宇,周陶杰,项国洪,等. 一种盘型激光器件. CN109638647A. 2019-04-16.
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