一种盘型激光器件 | |
张昭宇; 周陶杰; 项国洪; 方铉; 项博媛 | |
2019-04-16 | |
著作权人 | 香港中文大学(深圳) |
专利号 | CN109638647A |
国家 | 中国 |
文献子类 | 发明申请 |
其他题名 | 一种盘型激光器件 |
英文摘要 | 本发明公开了一盘型激光器件包括衬底、形成于所述衬底上的缺陷抑制层、形成于所述缺陷抑制层上的缓冲层、形成于所述缓冲层上的牺牲层及形成于所述牺牲层上的有源区;所述盘型激光器件的直径为0.5~10um。本发明的盘型激光器件包括衬底、形成于衬底上的缺陷抑制层、形成于缺陷抑制层上的缓冲层、形成于缓冲层上的牺牲层及形成于牺牲层上的有源区;盘型激光器件的直径为0.5~10um;不仅尺寸小,能够很好地应用于大面积及高密度集成的硅基光芯片,且该盘型激光器件具有优良的发光强度及阈值。 |
公开日期 | 2019-04-16 |
申请日期 | 2018-12-24 |
状态 | 申请中 |
内容类型 | 专利 |
源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/92380] ![]() |
专题 | 半导体激光器专利数据库 |
作者单位 | 香港中文大学(深圳) |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 张昭宇,周陶杰,项国洪,等. 一种盘型激光器件. CN109638647A. 2019-04-16. |
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