金属电极的沉积方法
逯心红; 郝润豹; 尚飞
2018-11-27
著作权人青岛海信宽带多媒体技术有限公司
专利号CN108899756A
国家中国
文献子类发明申请
其他题名金属电极的沉积方法
英文摘要本发明公开了一种金属电极的沉积方法,该方法包括:在晶圆表面蒸涂底膜;在所述晶圆的表面涂覆双层光刻胶层,所述双层光刻胶层覆盖所述底膜;对双层光刻胶层进行曝光、显影,以显现出特定沉积图形;依次在所述沉积图形上进行第一金属和第二金属沉积;将第三金属以不同速率分次在所述第二金属层上进行沉积;去除所述晶圆表面的光刻胶层,以在所述晶圆表面形成金属电极图形。本发明通过不同沉积速率搭配沉积的方式,可以较好地维持光刻胶的胶型,防止长时间高能量原子轰击光刻胶,导致光刻胶变形塌陷,解决金属剥离困难的问题。
公开日期2018-11-27
申请日期2018-06-06
状态申请中
内容类型专利
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/92278]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位青岛海信宽带多媒体技术有限公司
推荐引用方式
GB/T 7714
逯心红,郝润豹,尚飞. 金属电极的沉积方法. CN108899756A. 2018-11-27.
个性服务
查看访问统计
相关权益政策
暂无数据
收藏/分享
所有评论 (0)
暂无评论
 

除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。


©版权所有 ©2017 CSpace - Powered by CSpace