生长在铝酸锶钽镧衬底上的GaN纳米柱及其制法与应用
李国强; 朱运农; 李筱婵
2017-05-10
著作权人华南理工大学
专利号CN106653966A
国家中国
文献子类发明申请
其他题名生长在铝酸锶钽镧衬底上的GaN纳米柱及其制法与应用
英文摘要本发明属于GaN纳米柱制备的技术领域,公开了生长在铝酸锶钽镧衬底上的GaN纳米柱及其制法与应用。所述生长在铝酸锶钽镧衬底上的GaN纳米柱包括铝酸锶钽镧衬底,生长在铝酸锶钽镧衬底上的GaN纳米柱模板层,生长在GaN纳米柱模板层上的GaN纳米柱阵列所述铝酸锶钽镧衬底以(111)面偏(100)方向0.5~1°为外延面;晶体外延取向关系为:GaN的(0001)面平行于La0.3Sr7AlTaO6衬底的(111)面。本发明的方法简单,所制备的GaN纳米柱阵列尺寸可控,具有晶体质量好、缺陷密度低和应力弛豫的特点。
公开日期2017-05-10
申请日期2016-10-31
状态申请中
内容类型专利
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/92117]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位华南理工大学
推荐引用方式
GB/T 7714
李国强,朱运农,李筱婵. 生长在铝酸锶钽镧衬底上的GaN纳米柱及其制法与应用. CN106653966A. 2017-05-10.
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