生长在铝酸锶钽镧衬底上的GaN纳米柱及其制法与应用 | |
李国强; 朱运农; 李筱婵 | |
2017-05-10 | |
著作权人 | 华南理工大学 |
专利号 | CN106653966A |
国家 | 中国 |
文献子类 | 发明申请 |
其他题名 | 生长在铝酸锶钽镧衬底上的GaN纳米柱及其制法与应用 |
英文摘要 | 本发明属于GaN纳米柱制备的技术领域,公开了生长在铝酸锶钽镧衬底上的GaN纳米柱及其制法与应用。所述生长在铝酸锶钽镧衬底上的GaN纳米柱包括铝酸锶钽镧衬底,生长在铝酸锶钽镧衬底上的GaN纳米柱模板层,生长在GaN纳米柱模板层上的GaN纳米柱阵列所述铝酸锶钽镧衬底以(111)面偏(100)方向0.5~1°为外延面;晶体外延取向关系为:GaN的(0001)面平行于La0.3Sr7AlTaO6衬底的(111)面。本发明的方法简单,所制备的GaN纳米柱阵列尺寸可控,具有晶体质量好、缺陷密度低和应力弛豫的特点。 |
公开日期 | 2017-05-10 |
申请日期 | 2016-10-31 |
状态 | 申请中 |
内容类型 | 专利 |
源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/92117] ![]() |
专题 | 半导体激光器专利数据库 |
作者单位 | 华南理工大学 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 李国强,朱运农,李筱婵. 生长在铝酸锶钽镧衬底上的GaN纳米柱及其制法与应用. CN106653966A. 2017-05-10. |
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