一种在硅片上制备高效硅基发光薄膜的方法
季振国
2003-09-17
著作权人浙江大学
专利号CN1442883A
国家中国
文献子类发明申请
其他题名一种在硅片上制备高效硅基发光薄膜的方法
英文摘要本发明公开的在硅衬底上制备硅基发光薄膜的方法,包括在经过清洗的硅片衬底上热氧化生长一层氧化硅薄膜,再在其上沉积一层掺有一种或多种金属元素如锰、钛、铈、铽、铱、钇、铅、镍、钴、钙、铒、铕、铪、锶、镧、镝等的锌或含锌化合物薄膜,最后通过高温热处理使锌或含锌化合物薄膜与氧化硅膜发生反应形成晶体结构的发光硅酸锌薄膜,其发光波长与掺杂元素的种类有关。本发明提出了制备高效、稳定的硅基发光薄膜的方法。它简单、易行,而且与硅集成电路器件工艺兼容。
公开日期2003-09-17
申请日期2003-02-28
状态失效
内容类型专利
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/92089]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位浙江大学
推荐引用方式
GB/T 7714
季振国. 一种在硅片上制备高效硅基发光薄膜的方法. CN1442883A. 2003-09-17.
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