用于p型AlGaN霍尔测试的欧姆接触层及其制备方法 | |
田爱琴; 刘建平; 池田昌夫; 张书明; 李德尧; 张立群; 杨辉 | |
2017-05-31 | |
著作权人 | 杭州增益光电科技有限公司 |
专利号 | CN106783978A |
国家 | 中国 |
文献子类 | 发明申请 |
其他题名 | 用于p型AlGaN霍尔测试的欧姆接触层及其制备方法 |
英文摘要 | 本发明公开了一种用于p型AlGaN霍尔测试的欧姆接触层,其包括:衬底;在所述衬底上的缓冲层;在所述缓冲层上的不掺杂的u型GaN层;在所述u型GaN层上的p型AlGaN厚层;在所述p型AlGaN厚层上的Al组分渐变的p型AlGaN层;在所述Al组分渐变的p型AlGaN层上的重掺杂的p型GaN层。本发明还公开一种用于p型AlGaN霍尔测试的欧姆接触层的制备方法。本发明采用Al组分渐变的p型AlGaN层和重掺杂的p型GaN层作为欧姆接触层的I‑V曲线具有良好的线性关系,在获得良好的欧姆接触性能的同时,消除了p型AlGaN厚层与重掺杂的p型GaN层之间的极化电荷,从而在进行霍尔测试时,获得准确的测试结果。 |
公开日期 | 2017-05-31 |
申请日期 | 2016-09-29 |
状态 | 申请中 |
内容类型 | 专利 |
源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/92075] ![]() |
专题 | 半导体激光器专利数据库 |
作者单位 | 杭州增益光电科技有限公司 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 田爱琴,刘建平,池田昌夫,等. 用于p型AlGaN霍尔测试的欧姆接触层及其制备方法. CN106783978A. 2017-05-31. |
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