一种具有新型腔面非注入区窗口结构的半导体激光器
崔碧峰; 张松; 计伟; 陈京湘; 王晓玲; 苏道军
2013-11-20
著作权人北京工业大学
专利号CN103401140A
国家中国
文献子类发明申请
其他题名一种具有新型腔面非注入区窗口结构的半导体激光器
英文摘要本发明提出了一种具有新型腔面非注入区窗口结构的半导体激光器,从下至上依次包括衬底、下限制层、下波导层、具有量子阱结构的有源层、上波导层、上限制层、欧姆接触层,腐蚀除去欧姆接触层和上限制层的四边,在欧姆接触层的中心位置形成第一脊型台,欧姆接触层上下贯通,上限制层上下不贯通;腐蚀去除上限制层未贯通部分的四角,腐蚀后上限制层的四角不贯通;电绝缘介质层覆盖于上限制层的上表面及第一脊型台的侧面,正面电极覆盖在电绝缘介质层和第一脊型台的上表面,背面电极生长在衬底上。本发明形成腔面非注入区,有效地提高了半导体激光器的COD阈值,通过在非注入窗口区刻蚀脊型结构,形成侧向弱折射率波导结构,有效地抑制了光束在水平方向上的发散。
公开日期2013-11-20
申请日期2013-07-18
状态授权
内容类型专利
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/91741]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位北京工业大学
推荐引用方式
GB/T 7714
崔碧峰,张松,计伟,等. 一种具有新型腔面非注入区窗口结构的半导体激光器. CN103401140A. 2013-11-20.
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