半导体激光芯片及其制造方法
胡海; 何晋国
2014-07-30
著作权人深圳清华大学研究院
专利号CN103956647A
国家中国
文献子类发明申请
其他题名半导体激光芯片及其制造方法
英文摘要一种半导体激光芯片,包括一衬底,依次磊叠设于所述衬底一侧的一第一波导层、一有源层、一第二波导层、一第一刻蚀阻挡层、一第三波导层,以及一欧姆接触层,还包括设于第三波导层和欧姆接触层之间的一第二刻蚀阻挡层,所述第二刻蚀层完全覆盖第三波导层,所述欧姆接触层的长度和宽度均小于所述半导体芯片的长度和宽度。相比于现有技术,本发明的半导体激光芯片在欧姆接触层下面设置了一刻蚀阻挡层,将靠近半导体激光芯片腔面的部分欧姆接触层蚀刻掉,同时实现P-面金属电极、欧姆接触层相对于半导体激光芯片腔面的缩进,达到了有效的降低半导体激光芯片的腔面电流的效果。
公开日期2014-07-30
申请日期2014-05-16
状态失效
内容类型专利
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/91648]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位深圳清华大学研究院
推荐引用方式
GB/T 7714
胡海,何晋国. 半导体激光芯片及其制造方法. CN103956647A. 2014-07-30.
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