偏振波长可调谐垂直腔面发射激光器及其制备方法
关宝璐; 郭霞; 史国柱; 李硕; 王强; 周弘毅; 陈树华; 苏治平
2012-07-11
著作权人北京工业大学
专利号CN102570302A
国家中国
文献子类发明申请
其他题名偏振波长可调谐垂直腔面发射激光器及其制备方法
英文摘要本发明提供了一种偏振波长可调谐垂直腔面发射激光器及其制备方法,采用半导体微纳加工方法制备有效折射率各向异性的亚波长光栅,将其刻蚀在可调谐垂直腔面发射激光器的谐振腔内,内腔亚波长光栅可以等效为一定厚度的负单轴晶体,利用“形式双折射”效应,TE、TM偏振模式在谐振腔分别满足不同的F-P标具方程,两偏振模式的谐振波长分离,设计TE偏振模式波长在中心波长处,该模式比TM偏振模式需更低的阈值增益,优先激射,TM偏振模式将被抑制,从而使偏振波长可调谐垂直腔面发射激光器在波长连续调谐过程中具有波长偏振稳定输出的功能。
公开日期2012-07-11
申请日期2012-01-20
状态授权
内容类型专利
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/91551]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位北京工业大学
推荐引用方式
GB/T 7714
关宝璐,郭霞,史国柱,等. 偏振波长可调谐垂直腔面发射激光器及其制备方法. CN102570302A. 2012-07-11.
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