基于双波面干涉条纹阵列大面积光学轮廓测量装置和方法 | |
余学才; 肖景天; 任华西; 王晓庞 | |
2016-08-17 | |
著作权人 | 电子科技大学 |
专利号 | CN105865369A |
国家 | 中国 |
文献子类 | 发明申请 |
其他题名 | 基于双波面干涉条纹阵列大面积光学轮廓测量装置和方法 |
英文摘要 | 本发明公开了一种基于双波面干涉条纹阵列大面积光学轮廓测量装置和方法;其包括半导体激光器、透镜、平行平板组、CCD相机及数据处理单元。本发明采用非平行的相关光源,通过透镜和平行平板组组成的光学系统向待测量物体投影大面积干涉条纹,并由CCD相机接收经待测量物体所调制的畸变干涉条纹阵列图像,再利用数据处理单元进行图像处理,重建待测量物体表面三维轮廓,实现对待测量物体光学轮廓测量,具有快速、非接触、高精度、大面积的特点,具有广阔的应用前景。 |
公开日期 | 2016-08-17 |
申请日期 | 2016-05-23 |
状态 | 授权 |
内容类型 | 专利 |
源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/91369] ![]() |
专题 | 半导体激光器专利数据库 |
作者单位 | 电子科技大学 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 余学才,肖景天,任华西,等. 基于双波面干涉条纹阵列大面积光学轮廓测量装置和方法. CN105865369A. 2016-08-17. |
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