基于双波面干涉条纹阵列大面积光学轮廓测量装置和方法
余学才; 肖景天; 任华西; 王晓庞
2016-08-17
著作权人电子科技大学
专利号CN105865369A
国家中国
文献子类发明申请
其他题名基于双波面干涉条纹阵列大面积光学轮廓测量装置和方法
英文摘要本发明公开了一种基于双波面干涉条纹阵列大面积光学轮廓测量装置和方法;其包括半导体激光器、透镜、平行平板组、CCD相机及数据处理单元。本发明采用非平行的相关光源,通过透镜和平行平板组组成的光学系统向待测量物体投影大面积干涉条纹,并由CCD相机接收经待测量物体所调制的畸变干涉条纹阵列图像,再利用数据处理单元进行图像处理,重建待测量物体表面三维轮廓,实现对待测量物体光学轮廓测量,具有快速、非接触、高精度、大面积的特点,具有广阔的应用前景。
公开日期2016-08-17
申请日期2016-05-23
状态授权
内容类型专利
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/91369]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位电子科技大学
推荐引用方式
GB/T 7714
余学才,肖景天,任华西,等. 基于双波面干涉条纹阵列大面积光学轮廓测量装置和方法. CN105865369A. 2016-08-17.
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