面発光型半導体レーザ装置およびその製造方法
櫻井 淳; 吉川 昌宏
2009-03-12
著作权人富士ゼロックス株式会社
专利号JP2009054855A
国家日本
文献子类发明申请
其他题名面発光型半導体レーザ装置およびその製造方法
英文摘要(修正有) 【課題】放熱性に優れ、光出力の低下を抑制する面発光型半導体レーザ装置を提供する。 【解決手段】VCSEL100は、基板102上に、n型のバッファ層104、n型の下部DBR106、活性領域108、電流狭窄層110、p型の上部DBR112、p型のGaAsコンタクト層114を含む半導体層を積層し、レーザ光を出射するポストPとパッド形成領域118とが半導体層に形成された溝116によって分離されている。パッド形成領域118の外縁122に、半導体層をエッチングし基板に至る深さを有する外周溝140が形成される。パッド形成領域118の表面から外周溝140の側面に至り放熱用金属膜138が形成されている。 【選択図】図3
公开日期2009-03-12
申请日期2007-08-28
状态授权
内容类型专利
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/91240]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位富士ゼロックス株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
櫻井 淳,吉川 昌宏. 面発光型半導体レーザ装置およびその製造方法. JP2009054855A. 2009-03-12.
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