| 用于短波半导体激光曝光的可光聚合组合物,光敏组合物和用于聚合光敏组合物的方法 | |
| 室田泰文; 曾吕利忠弘 | |
| 2002-05-29 | |
| 著作权人 | 富士胶片株式会社 |
| 专利号 | CN1351280A |
| 国家 | 中国 |
| 文献子类 | 发明申请 |
| 其他题名 | 用于短波半导体激光曝光的可光聚合组合物,光敏组合物和用于聚合光敏组合物的方法 |
| 英文摘要 | 本发明公开了一种可光聚合组合物包括(i)由下式(I－1)表示的增感染料(ii)钛茂化合物和(iii)具有至少一种烯属不饱和双键的可加成聚合化合物:其中A和B分别代表－S－,NR3,或NR4;R3和R4各代表取代的或未取代的烷基,或取代的或未取代的芳基;Y1和Y2各代表与相邻的A或B,和相邻的碳原子一起形成染料碱性核的非金属原子基团;R1和R2各代表单价的非金属原子基团,或R1和R2可以相互键合形成脂肪的或芳香的环。 |
| 公开日期 | 2002-05-29 |
| 申请日期 | 2000-10-26 |
| 状态 | 授权 |
| 内容类型 | 专利 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/91021]  |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | 富士胶片株式会社 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 室田泰文,曾吕利忠弘. 用于短波半导体激光曝光的可光聚合组合物,光敏组合物和用于聚合光敏组合物的方法. CN1351280A. 2002-05-29. |
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