硅光电器件及其制备方法和使用其的图像输入/输出装置
宋仁才; 崔秉龙
2006-05-31
著作权人三星电子株式会社
专利号CN1780007A
国家中国
文献子类发明申请
其他题名硅光电器件及其制备方法和使用其的图像输入/输出装置
英文摘要本发明公开了一种制备硅光电器件的方法、通过该方法制备的硅光电器件以及具有该硅光电器件的图像输入和/或输出装置。所述方法包括:制备n型或p型硅基衬底;在所述衬底表面上的一个或多个区域形成多晶硅;对形成所述多晶硅处的衬底表面进行氧化以在所述表面上形成氧化硅层,在所述衬底和所述氧化硅层之间的界面上形成微缺陷弯曲图案,其中,通过在由穿过所述多晶硅中的晶界的氧而加速的氧化工艺期间的氧化,形成所述微缺陷弯曲图案;通过蚀刻所述氧化硅层而显露所述微缺陷弯曲图案;以及通过将所述显露的微缺陷弯曲图案掺杂为与所述衬底相反的类型来形成掺杂区。
公开日期2006-05-31
申请日期2005-11-24
状态失效
内容类型专利
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/90602]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位三星电子株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
宋仁才,崔秉龙. 硅光电器件及其制备方法和使用其的图像输入/输出装置. CN1780007A. 2006-05-31.
个性服务
查看访问统计
相关权益政策
暂无数据
收藏/分享
所有评论 (0)
暂无评论
 

除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。


©版权所有 ©2017 CSpace - Powered by CSpace