一种氮铝共掺杂空穴型氧化锌薄膜材料的制备工艺
李效民; 张灿云; 边继明; 于伟东; 高相东
2006-06-07
著作权人中国科学院上海硅酸盐研究所
专利号CN1783433A
国家中国
文献子类发明申请
其他题名一种氮铝共掺杂空穴型氧化锌薄膜材料的制备工艺
英文摘要本发明涉及一种氮铝共掺杂空穴型氧化锌薄膜及其制备工艺,采用超声喷雾热解法,以Zn的有机或无机盐溶液,N的有机或无机盐溶液和Al的无机盐溶液的混合溶液为前驱体,通过调节Zn2+∶NH4+∶Al3+=1∶(1-3)∶(0.01-0.2)并控制衬底温度在600-900℃可实现对p型ZnO薄膜电性能的控制。本发明制备的p型ZnO薄膜的电阻率在10-1-10-2Ωcm,迁移率最高可达103cm2V-1s-1,并且薄膜的晶粒大小均匀、排列致密,同时薄膜具有强的(101)取向的结晶特性和常温紫外发光特性。
公开日期2006-06-07
申请日期2004-12-03
状态失效
内容类型专利
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/90459]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位中国科学院上海硅酸盐研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
李效民,张灿云,边继明,等. 一种氮铝共掺杂空穴型氧化锌薄膜材料的制备工艺. CN1783433A. 2006-06-07.
个性服务
查看访问统计
相关权益政策
暂无数据
收藏/分享
所有评论 (0)
暂无评论
 

除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。


©版权所有 ©2017 CSpace - Powered by CSpace