| 波导、包括该波导的装置及制造该波导的方法 | |
| 小山泰史 | |
| 2012-11-21 | |
| 著作权人 | 佳能株式会社 |
| 专利号 | CN102790355A |
| 国家 | 中国 |
| 文献子类 | 发明申请 |
| 其他题名 | 波导、包括该波导的装置及制造该波导的方法 |
| 英文摘要 | 提供一种波导、包括该波导的装置及制造该波导的方法，使用该波导抑制了在初始阶段中或在操作期间在半导体中引起的或由制造工艺等引起的应力和缺陷，从而预期有特性的改进和稳定性。该波导包括：第一导体层和第二导体层，其包括相对于波导模式下的电磁波具有负介电常数实部的负介电常数介质；以及核心层，其与第一导体层和第二导体层接触，并且被放置在第一导体层与第二导体层之间，并且包括半导体部分。包括半导体部分的核心层具有在面内方向上延伸的凹入凸出结构。 |
| 公开日期 | 2012-11-21 |
| 申请日期 | 2012-05-14 |
| 状态 | 失效 |
| 内容类型 | 专利 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/90428]  |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | 佳能株式会社 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 小山泰史. 波导、包括该波导的装置及制造该波导的方法. CN102790355A. 2012-11-21. |
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