采用InGaSb柱形量子点实现高效率5μm通讯波段激光器结构的外延生长设计及方法
李占国; 刘国军; 尤明慧; 李林; 李梅; 乔忠良; 邓昀; 王勇; 王晓华; 赵英杰
2010-01-13
著作权人长春理工大学
专利号CN101626143A
国家中国
文献子类发明申请
其他题名采用InGaSb柱形量子点实现高效率5μm通讯波段激光器结构的外延生长设计及方法
英文摘要III-V族锑化物以其特有的晶格参数、能带结构特性,在近、中红外半导体器件方面显示出越来越重要得研究价值和应用价值。GaAs基5μm的Sb基量子点激光器的研制将提供替代InP基材料器件的可能,克服InP基材料其间难以高密度集成,温度稳定性差等缺点,为光通讯提供一种价格低廉、功耗小、性能优良的新光源选择。本发明是关于采用InGaSb柱形量子点实现高效率5μm通讯波段激光器结构的外延生长设计及方法的,能够实现锑化物体系的低维外延生长的研制,将为替代InP基材料器件,克服InP基材料其间难以高密度集成,温度稳定性差等缺点,为光通讯提供一种价格低廉、功耗小、性能优良的新光源选择。
公开日期2010-01-13
申请日期2009-04-10
状态失效
内容类型专利
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/90251]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位长春理工大学
推荐引用方式
GB/T 7714
李占国,刘国军,尤明慧,等. 采用InGaSb柱形量子点实现高效率5μm通讯波段激光器结构的外延生长设计及方法. CN101626143A. 2010-01-13.
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